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八英寸晶圓廠(chǎng)的“問(wèn)題”

發(fā)布時(shí)間:2022-03-17作者來(lái)源:薩科微瀏覽:2372

保守來(lái)講,當(dāng)下8英寸(200mm)晶圓的供應(yīng)鏈情況相當(dāng)嚴(yán)峻!


然而,這絕不是新問(wèn)題。中國(guó)臺(tái)灣的市場(chǎng)調(diào)查公司一一TrendForce于2020年11月發(fā)布新聞稱(chēng):“就8英寸晶圓的產(chǎn)能而言,自2019年下半年以來(lái)一直持續(xù)在嚴(yán)重的供給不足問(wèn)題”。


此外,雪上加霜的是2021年3月瑞薩電子那珂工廠(chǎng)發(fā)生了火災(zāi)。由于瑞薩的此處工廠(chǎng)為諸多車(chē)型供貨,因此導(dǎo)致問(wèn)題更加惡化。


基于以上背景,導(dǎo)致諸多因素“糾纏”在一起。但是,不言而喻,[敏感詞]的原因還是在于新冠疫情(COVID-19)。由于新冠疫情的發(fā)生,耳機(jī)、電腦、電視、顯示屏、手機(jī)等各種電子產(chǎn)品的需求猛增。


雖然汽車(chē)也屬于以上范疇,但人們還是希望汽車(chē)市場(chǎng)會(huì)在2021年內(nèi)從新冠疫情的陰影中恢復(fù)。如今各種產(chǎn)品都在推廣將多種功能匯集于一體的SoC(System on Chip)模式,因此很多產(chǎn)品都需要搭載多個(gè)具備數(shù)模混合信號(hào)(Mixed Signal Chip)的IC。以上產(chǎn)品的用途方向主要有以下:PMIC(Power Management IC)、CMOS圖像傳感器、指紋識(shí)別傳感器、汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)/底盤(pán)控制、顯示屏驅(qū)動(dòng)IC、Sub Giga Hertz的無(wú)線(xiàn)通信芯片等。一般情況下,以上這些都適用180納米、350納米工藝,用8英寸晶圓生產(chǎn)。


即,用于這種數(shù)模混合信號(hào)芯片(Mixed Signal Chip)、功率半導(dǎo)體的產(chǎn)品需求不斷增長(zhǎng),這導(dǎo)致了8英寸晶圓的產(chǎn)能不足。


受到8英寸晶圓的供給達(dá)到極限的影響,代工廠(chǎng)(Foundry)很有可能會(huì)擴(kuò)大產(chǎn)能。代工廠(chǎng)可能會(huì)收購(gòu)垂直統(tǒng)籌型廠(chǎng)家(IDM:Integrated Device Manufacturer)的8英寸晶圓生產(chǎn)設(shè)備和產(chǎn)線(xiàn)。可列舉的事例如下:最近有報(bào)道指出,中國(guó)臺(tái)灣的UMC正在討論收購(gòu)Japan Semiconductor(原東芝的半導(dǎo)體制造公司) 的8英寸產(chǎn)線(xiàn)。


  沒(méi)有供生產(chǎn)廠(chǎng)家  
  正如Trend Force的報(bào)道指出的一樣,自2019年下半年開(kāi)始的嚴(yán)重的半導(dǎo)體供給不足問(wèn)題,可以推測(cè)的原因是幾乎沒(méi)有廠(chǎng)家可以生產(chǎn)出8英寸晶圓的設(shè)備,即使現(xiàn)在也是如此,因此半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的價(jià)格不斷高漲。    

TSMC的采用8英寸、12英寸晶圓的工藝。(圖片出自:eetimes)       此外,8英寸晶圓的價(jià)格較12英寸低得多,因此,代工廠(chǎng)普遍認(rèn)為擴(kuò)大8英寸產(chǎn)能的成本效率更差。因此,產(chǎn)生了一系列連鎖反應(yīng),如一部分代工廠(chǎng)就對(duì)客戶(hù)提高了8英寸晶圓的價(jià)格。  
  換句話(huà)說(shuō),就8英寸晶圓的情況而言,與其說(shuō)“供應(yīng)鏈混亂”,不如說(shuō)其特點(diǎn)是“供應(yīng)廠(chǎng)家不足”。       一部分“移步”12英寸晶圓  
  就12英寸(300mm)晶圓的代工廠(chǎng)而言,以TSMC、GLOBALFOUNDRIES為代表的各家企業(yè)為擴(kuò)大產(chǎn)能而在火熱地投資,然而,卻看不到任何有關(guān)8英寸的改善情況。  
  由于8英寸晶圓產(chǎn)能沒(méi)有任何改善,因此一部分廠(chǎng)家正在從現(xiàn)有的180nm、350nm的8英寸產(chǎn)線(xiàn)轉(zhuǎn)為使用12英寸晶圓。此外,很多代工廠(chǎng)可以提供用12英寸晶圓生產(chǎn)的130nm工藝,因此可用作二次供給源或者主要供給源。因此,這有助于提高供應(yīng)鏈的地理多樣性。       180納米、130納米工藝技術(shù)的特征  
  180納米和130納米工藝雖然有類(lèi)似的工藝,但也有不同的地方。主要是晶體管的閾值電壓的下降程度不同,核心供給電壓為1.8V一1.5V,或者低至1.2V。此外,由于存在各種工藝技術(shù)的選擇項(xiàng),因此可以支持5V/3.3V的IO電壓,就對(duì)于模擬/RF設(shè)計(jì)極其重要的被動(dòng)零部件而言,這些工藝特征極其類(lèi)似。    

用于Mixed Signal  ASIC等產(chǎn)品的主要節(jié)點(diǎn)技術(shù)比較圖。(圖片出自:eetimes)

    12英寸晶圓技術(shù)有多個(gè)優(yōu)勢(shì)。由于可代替舊代際技術(shù)中的鋁而使用銅,因此電流密度允許值也較高,耐電遷移性也較優(yōu)秀。此外,金屬層的層數(shù)也較多,晶體管尺寸較小,因此,通過(guò)提高晶體管密度、布線(xiàn)密度,可以縮小芯片尺寸、提高性能。  
  此外,大部分180納米工藝技術(shù)和大部分的130nm BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)工藝技術(shù)都可以支持STI(Shallow Trench Isolation,淺槽隔離)等功能,因此與大部分在350納米技術(shù)中使用的LOCOS(Local Oxidation of Silicon)絕緣相比,因此可以獲得較高的密度、閂鎖效應(yīng)(Latch Up)保護(hù)機(jī)能等。因此,達(dá)到提高線(xiàn)路性能和穩(wěn)定性的效果。  
  如今,130納米 BCD工藝已經(jīng)相當(dāng)成熟,因此可作為各種工藝技術(shù)的選擇項(xiàng)。如不同級(jí)別的高壓晶體管、非揮發(fā)性存儲(chǔ)半導(dǎo)體、MIM(金屬一一絕緣膜一一金屬)電容、穩(wěn)壓二極管(Zener)/肖特基二極管等。因此,不僅可以將復(fù)雜的模擬/RF功能與SoC解決方案融合,還可以提供其他優(yōu)勢(shì)。       8英寸晶圓還有很多優(yōu)勢(shì)  
  8英寸晶圓還有很多優(yōu)勢(shì),比方說(shuō),用350納米制造的8英寸晶圓的價(jià)格優(yōu)勢(shì)。  
  原因如下:生產(chǎn)設(shè)備已經(jīng)完成折舊、生產(chǎn)工藝相對(duì)簡(jiǎn)單(層數(shù)少)。此外,一部分模擬線(xiàn)路未必能夠在新工藝中順利實(shí)現(xiàn)微縮化,因此與130納米同等程度的半導(dǎo)體芯片的價(jià)格可能會(huì)高于350納米。但是,當(dāng)因零部件不足導(dǎo)致無(wú)法生產(chǎn)產(chǎn)品時(shí),大部分情況下會(huì)發(fā)生極其嚴(yán)重的情況,而不是單純的半導(dǎo)體芯片的成本差。  
  此外,現(xiàn)階段人們的關(guān)注點(diǎn)是盡管各家代工廠(chǎng)都在從8英寸轉(zhuǎn)到12英寸,但卻沒(méi)有一家廠(chǎng)家做出任何發(fā)言。對(duì)于Mixed Signal  ASIC熟練的廠(chǎng)家雖然在努力,但首先應(yīng)該著手于線(xiàn)路圖的端口、IC 的數(shù)據(jù)手冊(cè)(Data Sheet)。  
  就為重新設(shè)計(jì)ASIC所需的投資而言,應(yīng)該統(tǒng)籌一下其他產(chǎn)品,以免同樣受到如8英寸供應(yīng)鏈同樣問(wèn)題。  
  130納米的特征尺寸(Feature Size)較小,因此可以在不增加成本的情況下與“Arm Cortex-M”系列核融合。低端CPU所需要的芯片面積僅為數(shù)平方毫米,而且有可能以較高的效率與64kbit/128kbit的SRAM融合。  
  從如今的數(shù)據(jù)手冊(cè)來(lái)看,從設(shè)計(jì)ASIC、量產(chǎn)、獲得認(rèn)證的日程需要14個(gè)月一一24個(gè)月(依復(fù)雜程度而定),最初的Proto Type Silicon應(yīng)該可以在一年內(nèi)完成。如果是車(chē)載產(chǎn)品,從制作規(guī)格書(shū)到PPAP(Production part approval process,生產(chǎn)件批準(zhǔn)程序)大概需要24個(gè)月一一36個(gè)月(依復(fù)雜程度而定)。130納米ASIC的一般預(yù)算為60萬(wàn)美元起步(依據(jù)實(shí)際的復(fù)雜程度和IP知識(shí)產(chǎn)權(quán)內(nèi)容而定),如果依據(jù)AEC-Q100的話(huà),費(fèi)用為400萬(wàn)美元左右。如今,130納米工藝(12英寸晶圓)的Mask Tool的成本為20萬(wàn)美元以下,占整體成本的比例較低。  
  很多Mixed Signal Device都是由供給不足的8英寸晶圓制造的,由于8英寸晶圓產(chǎn)線(xiàn)的投資不足(原因是投資收益率低下),未來(lái)供應(yīng)鏈問(wèn)題還會(huì)繼續(xù)存在。  
 

此次的半導(dǎo)體供給不足問(wèn)題某種程度上是一個(gè)“警告”,如今使用8英寸晶圓的企業(yè)應(yīng)該首先考慮一下未來(lái)的需求。此外,無(wú)論是主要生產(chǎn)據(jù)點(diǎn),還是第二供應(yīng)商(Second Source),在所有的工藝完成之前都需要確保足夠的時(shí)間。



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